选用不同的溶液来浸泡硅片可以达到清除不同类型表面污染杂质的目的。如采用**溶剂浸泡来达到去除**污染的目的,采用1号液(即SC1,硅片清洗剂主营,包含H2O2、NH3OH化学试剂以及H2O)浸泡来达到清除**、无机和金属离子的目的,采用2号(即SC2,包含HCL、H2O2化学试剂以及H2O)浸泡来达到清除AL、Fe、Na等金属离子的目的。
性能特点:1)对硅片切割悬浮液、硅片碾磨液、动物油、植物油、矿物油等都具有较好乳化、分散及洗净作用,且使用寿命长;2)适合切片后硅片清洗、硅片研磨后清洗;3)该产品不含磷、铜等有害硅片的金属离子,不含ODS(臭氧层破坏物质)、不含有ROHS禁用物质,硅片清洗剂供应,对人体无毒副作用,具有一定的生物降解性。
物理清洗
物理清洗有三种方法。①刷洗或擦洗:可除去颗粒污染和大多数粘在片子上的薄膜。②高压清洗:是用液体喷射片子表面,喷嘴的压力高达几百个大气压。高压清洗靠喷射作用,宝鸡硅片清洗剂,片子不易产生划痕和损伤。但高压喷射会产生静电作用,靠调节喷嘴到片子的距离、角度或加入防静电剂加以避免。③超声波清洗:超声波声能传入溶液,硅片清洗剂厂家,靠气蚀作用洗掉片子上的污染。但是,从有图形的片子上除去小于 1微米颗粒则比较困难。将频率提高到**高频频段,清洗效果更好。